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      酸霧吸收器、酸堿儲(chǔ)罐、酸堿噴射器-脫鹽水的再生

      2018.06.07

      混床的再生
      混床出水電導(dǎo)率>0.2μs/cm,SiO2>0.02mg/L時(shí),應(yīng)停止運(yùn)行,進(jìn)行再生。
      a.再生前的檢查
      1.酸、堿儲(chǔ)罐內(nèi)有足夠的酸、堿。
      2壓縮空氣系統(tǒng)完好備用。
      3.脫鹽水箱內(nèi)水量充足,再生泵完好備用,混床酸、堿噴射器完好,混床給水泵完好備用。
      4.各流量表、壓力表、電導(dǎo)率表等分析化驗(yàn)儀器都已校驗(yàn)好、。
      5.運(yùn)行和備用混床的進(jìn)酸、進(jìn)堿門(mén)應(yīng)關(guān)閉。
      6.待再生混床所有閥門(mén)應(yīng)關(guān)閉。
      7.酸霧吸收器完好備用。
      b.再生操作
      1.放水:開(kāi)啟排氣門(mén)、下排門(mén)、中排門(mén)放水至樹(shù)脂層上100mm左右處,關(guān)中排門(mén)、下排門(mén)。
      2.反洗分層:開(kāi)啟混床的反排門(mén),啟動(dòng)混床給水泵,緩慢開(kāi)啟混床的反進(jìn)門(mén),使樹(shù)脂緩慢上升至上視鏡中心線(xiàn),維持10min后,觀察陰、陽(yáng)樹(shù)脂應(yīng)有明顯的分界面,關(guān)反進(jìn)門(mén)、反排門(mén)停混床給水泵,讓樹(shù)脂自然沉降5min。若分層不理想應(yīng)重新分層,經(jīng)二次分層仍不理想時(shí),可向混床內(nèi)進(jìn)30%氫氧化鈉0.2m3,進(jìn)堿濃度為3-4%,浸泡半小時(shí),沖洗徹底后重新反洗分層。
      3.放水:反洗分層后,開(kāi)啟下排門(mén)、中排門(mén)放水至樹(shù)脂層上100mm左右處,關(guān)中排門(mén)、下排門(mén)。
      4.進(jìn)酸堿:開(kāi)啟酸霧吸收器進(jìn)水門(mén),待水滿(mǎn)過(guò)排水管時(shí),開(kāi)啟混床計(jì)量箱進(jìn)酸進(jìn)堿門(mén),分別開(kāi)啟酸、堿儲(chǔ)罐的出酸門(mén)和出堿門(mén),待計(jì)量箱滿(mǎn)時(shí)關(guān)閉計(jì)量箱進(jìn)酸、進(jìn)堿門(mén)。啟動(dòng)再生泵,開(kāi)啟混床酸、堿噴射器前進(jìn)水門(mén)及混床進(jìn)酸進(jìn)堿門(mén)及中排門(mén),調(diào)整中排排水量使進(jìn)酸門(mén)與進(jìn)堿門(mén)流量大體相當(dāng),當(dāng)混床內(nèi)液位穩(wěn)定后調(diào)整流量為20-25t/h,預(yù)噴射5-10min后開(kāi)酸、堿計(jì)量箱出口門(mén),控制進(jìn)酸濃度2-3%左右,堿濃度2-3%左右,進(jìn)30%氫氧化鈉2.7m3,進(jìn)30%鹽酸2m3。
      5.置換:進(jìn)酸進(jìn)堿完畢后,關(guān)閉計(jì)量箱出酸門(mén)、出堿門(mén),保持原來(lái)的流量,對(duì)樹(shù)脂進(jìn)行沖洗,置換45min左右,停再生泵關(guān)混床進(jìn)酸、進(jìn)堿門(mén)及噴射器前進(jìn)水門(mén)、中排門(mén)。
      6.陰正洗:開(kāi)啟混床給水泵及混床進(jìn)水門(mén),開(kāi)中排門(mén)進(jìn)行陰正洗,陰正洗至出水堿度<0.5mol/L。
      7.串洗:開(kāi)正排門(mén)、關(guān)中排門(mén)進(jìn)行串洗至排水DD<100μs/cm。
      8.放水:開(kāi)啟排氣門(mén)、中排門(mén)放水至樹(shù)脂層上100mm左右處,關(guān)中排門(mén)、排氣門(mén)。
      9.混脂:開(kāi)啟混床進(jìn)氣門(mén),由壓縮空氣系統(tǒng)向混床進(jìn)氣,開(kāi)反排門(mén),控制進(jìn)氣壓力不超過(guò)0.1MPa,充分混合10min,與此同時(shí)啟動(dòng)脫鹽設(shè)備,待混脂均勻后由3-4人分別迅速同時(shí)關(guān)進(jìn)氣門(mén)、反排門(mén)開(kāi)進(jìn)水門(mén)、正排門(mén),對(duì)樹(shù)脂進(jìn)行迫降,防止再次分層。
      10.正洗:開(kāi)啟排氣門(mén),關(guān)小中排門(mén)待排氣門(mén)溢水后關(guān)排氣門(mén),開(kāi)正排門(mén)調(diào)整流量進(jìn)行正洗,在至出水電導(dǎo)率<0.2μs/cm、SiO2<0.02mg/L后關(guān)進(jìn)水門(mén)、正排門(mén),開(kāi)排氣門(mén),待壓力放盡后關(guān)排氣門(mén)后備用。

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